布图设计两大复制侵权手段

　　侵犯商业秘密罪辩护_布图设计两大复制侵权手段

广东长昊律师事务所
 

       未经权利人同意而复制其布图设计即构成侵权。这里的复制主要有两种情况，一是完全复制，二是部分复制。剽窃、非法复制他人的布图设计会侵害集成电路产业的持续发展，从而损害公众的利益。一个半导体制造商可能要花费几百万元来开发半导体芯片，但是一家盗版企业可能仅需花费几十万元便可以复制这种芯片，因此这家盗版企业便可以以比较低的价格来出售这种芯片，由此使得开发芯片的厂家遭受巨大损失。这种非法竞争对于半导体产业的持续发展是极其有害的，因此要严厉打击、制止这种行为，不过前提是要在实践中能够正确认定出这种剽窃、复制行为。

　　完全复制侵权

　　完全复制就是将受保护的布图设计作为一个整体全部复制在自己的集成电路产品中，没做任何改动。在这种情况下，在侵权的布图设计中能够找出受保护的布图设计的完整形式。复制后的布图设计，完全是受保护的布图设计的再现，没有任何差异，或者在复制后的布图设计中，有受保护的布图设计的完整再现，另有一些与受保护的布图设计不同的地方。

　　这种情况认定起来并没有太大的困难，只要将两个布图设计相比较，如果完全相同，或者完全包含了受保护的布图设计，则完全可以认定侵权。虽然各国法律规定，布图设计全部给予他人独立创作的布图设计，即使与受保护的布图设计相同，也不作为侵权。但在实践中，这种情况是很难出现的。因为在布图设计创作过程中，虽然有一些基本的规则可以遵循，但基本不可能出现两个完全相同的布图设计。尤其在超大规模集成电路的布图设计中，含有几十万个甚至上千万个电子元件，这些电子元件的排列组合完全一致的几率非常之低，可以忽略不计。所以只要两个布图设计完全相同，几乎可以断定，其中一个必是复制的。

　　部分复制侵权

　　上述这种完全照搬他人受保护的布图设计的做法是过于明显了，很容易被他人发现，因而很多有能力的企业不采用这种方式，而是在复制的时候，对受保护的布图设计做一些必要的或不必要的修改，从而使人不易判断是复制他人受保护的布图设计。这就是部分复制。

　　对布图设计的部分复制，实际上是仿制。这种侵权方式比较隐密，不易被发觉，而且一旦被发觉，对其认定上也有很大的困难，不像完全复制那样容易认定。原因有两方面:一是在布图设计中，有一些共同遵循的规则，不可避免地在各个布图设计中有一些相同的地方;二是受布图设计功能的限制，不同的创作人员所创作的布图设计可能基本相似。这就增加了对这种复制认定的难度。

      邱戈龙律师，著名侵犯商业秘密罪辩护律师，。专业资深，侵犯商业秘密罪经侦立案、侵犯商业秘密罪证据调查、侵犯商业秘密罪司法鉴定、侵犯商业秘密罪司法审计、商业秘密罪辩护，。十佳律师专业办理侵犯商业秘密罪辩护，拥有丰富经验的律师团——广东长昊律师事务所（唯一官网：www.supermecourt.com）侵犯商业秘密罪律师团，善于在侵犯商业秘密罪案件中中申请取保候审、不逮捕、不起诉、无罪辩护，精准突破侵犯商业秘密罪案件的每一个痛点。