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集成电路布图设计专利法保护模式

时间:2019-08-16    来源:长昊律师网    浏览次数:

  侵犯商业秘密罪辩护_集成电路布图设计专利法保护模式

广东长昊律师事务所


      布图设计是高智慧的结晶,研究开发人员在布图设计上投入的太多的心血和资金,对布图设计的仿制,实际上是对研究开发人员合法利益的侵害,随着仿制状况的愈演愈烈,世界各国法律的缺失足以影响到集成电路产业的发展,立法保护的必要性就摆在在们面前。究竟应该采用什么形式的法律来保护布图设计,在各国来说部是一个难题,因为布图设计与作品,发明创造在一些特点比较相同,但是其本身也具有一定的特点,有着其自身的特殊性,因此,应该对布图设计模式进行探讨以寻找出最有效的保护方式。

  专利法保护的客体是发明创造。从大多数国家立法来看,专利法保护的对象都要具备新颖性、创造性和实用性。布图设计本身就是用来生产集成电路产品的,其实用性毋庸置疑。至于新颖性,只要该布图设计是前所未有的,即在新颖性检索中没有落入现有技术或设计,无疑也符合新颖性要求。但是就创造性而言,布图设计则很难达到专利泣的创造性高度,因为布图设计是以“集成度”作为技术进步的标志,布图设计的价值就在于集成规模的越来越大,比如说当前先进的布图设计同过去过时的集成电路设计相比,只是集成度的变高,就是同块芯片上集成的电子元器件数量有所增加而已。

      从布图设计本身来看,其基本的原理和构造不会发生^人的变化,不具备非显而易见性,更没有出现意想不到的效果,所以按照专利法对发明的刨造性要求,仅仅集成规模的扩大并不会构成突出的实质性特点和显著的进步,也就是说,布图设计难以达到专利法要求的创造性。另外,发明专利获得授权,在大多数国家都必须向有关部门提出申请,再经严格的审查,最终获得授权需要耗费长达几年的时问,而集成电路技术几乎天天都在发展,市面上天无都会出新产品,这就会出现一种状况就是,关于布图设计的授权还没拿到,市场上已经出现集成度更高的集成电路产品,这样的申请以及授权是毫无意义的。

  综上所述,专利法不适宜对布图设计进行保护

       邱戈龙律师,著名侵犯商业秘密罪辩护律师,。专业资深,侵犯商业秘密罪经侦立案、侵犯商业秘密罪证据调查、侵犯商业秘密罪司法鉴定、侵犯商业秘密罪司法审计、商业秘密罪辩护,。十佳律师专业办理侵犯商业秘密罪辩护,拥有丰富经验的律师团——广东长昊律师事务所(唯一官网:www.supermecourt.com)侵犯商业秘密罪律师团,善于在侵犯商业秘密罪案件中中申请取保候审、不逮捕、不起诉、无罪辩护,精准突破侵犯商业秘密罪案件的每一个痛点。




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