集成电路布图设计的法律特征

　　侵犯商业秘密罪辩护_集成电路布图设计的法律特征

广东长昊律师事务所

       布图设计属于智力成果要完成布图设计，设计人员必须完成艰辛的创造性劳动。本文通过采用掩膜板来制造集成电路这一工艺过程;来述布图设计的智力成果这一特征。通常，集成电路的制造大致分为两个步骤(I)设计布图(2)将布图设计复制于掩膜板(3)通过半导体工艺，将掩膜板上的布图设计实现在半导体基片上。在实际的集成电路产品开发当巾，在步骤(1)当中，布罔设计的研发费用要占整个集成电路产品开发的百分之五十以上。设计人员要根据集成电路预先实现的功能来设计出逻辑图和电路设计图，再把电路图中需要的成千上万个电子元件分配到多个叠层中，并确定它们之间的关系，冉画出每一个叠层的三维布图设计。

　　通过上述描述我们可以知道如图设计人员将大量的电子元器件分配在多个叠层巾从而形成个三维的图形配置这一过程是集成电路制作工艺的关键，集成电路在生产过程中，都是依靠布图设计来次性生产的，在期间不容许有半分的错误，比如说连线或者是元器件错误，有分错误，那么集成电路就成为废品，所以，这就要求设计人员在设计的过程当中谨小慎微，对每一个细节都周密考虑，不容许半分懈怠，集成电路布图是如此的重要，中国有句古话，种瓜得瓜，种豆得豆，布图计无疑相当于集成电路产品的“种子”，集成电路的质量优劣取决于布图设计水平的高低，布图设计是集高智力、高技术、和高资金于一体的智力成果。

　　布图设计具有无形性

　　通过上述的描述可以得知，布图设计是一种电子元件之间的三维配置，而这种三维配置其实是反映在人脑中的一种信息，是抽象的，也是无形的，但是如果这种抽象、无形的信息实现在某种载体上时，它就有了表达方式，即客观的、有具体形状的，比如，布图设计可以通过图形的方式体现在掩膜板上，也可以以编码的方式存在于存储设备当中。

　　布图设计具有可复制性

　　布图设计存在于不同的载体导致了复制方式的多样性，比如，如果布图设计以图形的方式存在于掩膜板上时，可以采用照相机对掩膜板进行拍照。如果布图设计以编码的方式存在于u盘等存储设备时，以拷贝的方法则可以完成复制。而如果布图设计已经固定在集成电路产品(芯片)当巾，可以将芯片泡在药水中进行腐蚀，使其露出层层图形，再用照相机对其进行分层拍照，以完成布图设计的复制。

     邱戈龙律师，著名侵犯商业秘密罪辩护律师，。专业资深，侵犯商业秘密罪经侦立案、侵犯商业秘密罪证据调查、侵犯商业秘密罪司法鉴定、侵犯商业秘密罪司法审计、商业秘密罪辩护，。十佳律师专业办理侵犯商业秘密罪辩护，拥有丰富经验的律师团——广东长昊律师事务所（唯一官网：www.supermecourt.com）侵犯商业秘密罪律师团，善于在侵犯商业秘密罪案件中中申请取保候审、不逮捕、不起诉、无罪辩护，精准突破侵犯商业秘密罪案件的每一个痛点。