布图设计之复制权

　　侵犯商业秘密罪辩护_布图设计之复制权

广东长昊律师事务所

        从各国及国际组织已颁布的国内法和国际法中对于布图设计权的规定来看，布图设计权在内容上可分为两大部分，即复制权和商业实施权。

　　所谓“复制权”是指布图设计权人有权复制或许可他人复制其布图设计之一部或全部;除法律另有规定外，未经权利人许可，任何第三人不得复制受保护的布图设计.无论是复制局部或者全部。这里的复制权的外在表现与著作权法中的复制权相同，但仔细研究其效力，还是有一定差别的。在集成电路产业界，采用反向工程的方法了解他人产品已成为惯例。如果简单地对此加以限制，必将抑制集成电路技术的发展速度。所以，布图设计保护法中把利用反向工程而复制的行为作为例外来处理，这与著作权中的复制权是不同的。即单纯为分析、研究或者教学目的而复制他人受保护的布图设计不视为侵权。不仅如此，为了鼓励技术改进，对于在此基础上，根据分析、研究结果再设计出具有独创性的布图设计也不视为侵权。台湾地区积体电路线路布局保护法明确了“为研究、教学或反向工程目的，分析、评估他人之电路布局，而加以复制者”不侵害布图设计权。世界上其他国家和国际组织制定的国内法和国际条约中无不有类似规定。我国的《集成电路布图设计保护条例》亦有类似规定。

　　在集成电路保护法中单独设置一项布图设计的复制权是为了适应集成电路产业化分工越来越细的发展趋势。集成电路产业发展到今天，已逐渐分化成三大组成部分，即设计业、芯片制造业和后道封装业。这导致集成电路设计逐渐独立出来成为专门的一个行业。这种分化是集成电路产业走向成熟的表现。因此，在法律上应当对这种分工精细化予以肯定。为了充分地保护设计人的权益，有必要专门规定布图设计的复制权。

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