反向工程和技术公开对于集成电路孰轻孰重?

　　集成电路设计制造过程中的每一步都与布图设计密切相关。而布图设计又具有著作权保护对象所必须具备的可复制性这一特征。当载体为掩模版时，只需对全套掩模版加以翻拍，即可复制出全部的布图设计。当布图设计以磁盘或磁带为载体时，同样可以用通常的磁带或磁盘拷贝方法复制布图设计。当布图设计被“固化”到己制成的集成电路产品之中日寸，仍然以图形方式存在，仍可采用“反向工程”或‘还原工程”的方法加以复制。正是这种可复制性直接导致了著作权法的某些保护原则和手段可以适用于集成电路布图设计。但是，布图设计毕竟不同于普通作品，将这种具有实用性的布图设计单纯地依靠著作权法所能提供的方式来保护，其结果肯定难如人意。

　　事实上，允许在一定条件下实施反向工程的规定，更类似于专利法中关于改进发明的规定。作为工业产权保护对象之一的专利技术是对全社会公开的。专利法设置专门的公开渠道，是为了便于他人在现有技术的基础上完成更新更优的发明创造。如果也像专利法一样规定专门的公开程序将布图设计图形公之于世，权利人将难以控制其布图设计。权利人不仅会在产品的成本方面丧失优势，甚至会连抢占市场的时间优势都丧失殆尽。因此在布图设计保护制度中不宜专门设立公开渠道。但是，保护布图设计的终极目的毕竟还是为了促进技术进步，因此还应当照顾到公共利益，以便他人在一定程度上可以借鉴现有的先进技术。在一定条件下的反向工程的特许便是起着与专利法中公开程序等效的作用。这是对公众利益的一个补偿。法律应当允许有关当事人为分析、研究集成电路的技术、特性目的而复制他人布图设计的行为，但并不允许将复制的布图设计直接再投入集成电路的生产。对于反向工程的特许，是考虑到现阶段技术发展水平、平衡权利人和公众利益的结果。这种平衡并非永恒的，它必将随着生产力的进步而被打破。到那时，法律必将通过修订在新的条件下寻求一个新的平衡支点。


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