反向工程独创性的判断标准之一----书面痕迹判断标准

　　根据美国《半导体芯片保护法》的立法史，白宫和参议院都很看重将书面痕迹作为证据来证明被告在分析评价原告布图设计的过程中付出了劳动，从而可以推出第二布图具有独创性，构成反向工程。因为书面痕迹判断标准强调被告在研究原告布图设计的过程中需要花费极大的时间和努力，因此也称为辛劳和投入标准。该标准是在立法听证会上由一位行业内的证人提出的。

　　毫无疑问，书面痕迹对于被告来说确实是证明反向工程的最好证据，但是书面痕迹只能证明被告在研究、分析原告布图设计过程中所付出的辛苦和投入，如果过于注重书面痕迹，就会导致仅将反向工程的成立建立在被告所作的投入上。但是，一个侵权者可能花费大量的时间和精力采用人工或电脑对布图设计进行分析并得到大量书面痕迹，而目的只是为了生成在先布图设计的复制件。因此，书面痕迹应该只能作为分析和评价的证据，但是不能因此而得出被告人的布图设计是原创的这样一个结论。而且对被告所付出的辛苦进行回报并不是反向工程立法的真正目的，反向工程的立法目的是为了让竞争者提供第二来源的芯片，使其与在先的芯片兼容，或者是对现有的半导体技术做出改进。

　　所以广东长昊律师事务所专业律师认为，仅仅提供书面痕迹并不能够充分证明被控布图设计的原创性，从而证明反向工程的成立，书面痕迹能够在某种程度上证明被控侵权人进行了独立的创作，但并不能因此就完全确定该布图设计具有独创性，也不能因此而完全确定该布图设计不是通过复制得来的。”也就是说，书面痕迹能够在一定程度上证明被控布图设计的原创性，但并不是决定性的、无可争议的证据。

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