集成电路的维权现状(3)

　　布图设计权利人享有专有权，包括对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制和将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。布图设计专有权的保护期为十年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登、记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起十五年后，不再受保护。

　　未经布图设计权利人许可，使用其布图设计，即侵犯集成电路布图设计专有权，引起纠纷的，由当事人协商解决;不愿协商或者协商不成的，布图设计权利人或利害关系人可以向人民法院起诉，也可以请求国务院知识产权行政部门处理。侵犯布图设计专有权的赔偿数额，为侵权人所获得的利益或者被侵权人所受到的损失，包括被侵权人为制止侵权行为所支付的合理开支。

　　自去年10月1日条例实施至今，国家知识产权局收到了160多份关于集成电路布图设计权申请，其中大部分申请来自IBM、西门子等国外的半导体公司。国内的申请又大部分集中在上海和北京，国内其他城市的申请寥寥无几。在我国半导体行业在发展初期，大量借鉴国外同行的布图设计，这将面临集成电路侵权诉讼的严重问题，而且我国自己设计的集成电路，也缺乏保护意识，不注册就意味着面对侵权行为，将无法获得法律的保护。条例很多条款对我国企业相当有利，其中规定只要我国企业对借鉴的外国布图设计稍作修改，只要和原布图设计不同，就可以在国家知识产权局注册，受法律的保护。即使今后该外国布图设计的持有人在华提起诉讼，也将无法胜诉。


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