集成电路布图设计权的3大取得方式

　　布图设计的完成并不当然取得布图设计权，往往必须履行一定的手续.从世界各国布图设计的保护法来看，主要有三种布图设计权取得方式：

　　第一，自然取得制。就是布图设计一经创作完成，就自动取得布图设计权，而不需要任何程序或手续。这种制度类似于版权的自动取得制，目前，仅英国、瑞典等少数国家采此种模式。在这种制度下，创作人一旦创作完成布图设计，就能获得法律保护而取得布图设计权，似乎为著作作人提供了较高的法律保护，但由于不进行登记，很难确定布图设计的创作完成时间，从而将很难认定布图设计的独创性，一旦发生纠纷，创作人将很难证明自己布图设计的独创性，因此大多数国家没有采取这种制度。

　　第二，登记取得制就是指布图设计创作完成以后，创作人及有关欲对此布图设计主张权利的人，只有向有关部门申请登记，经核准办理了登记手续后，才能取得该布图设计的权利保护。法国、德国、日本、韩国、中国等多数国家采用了登记取得制。如《欧共体指令》第4条第1款规定:“成员国可以规定，除非拓扑图自其首次被商业利用之日起2年内向公共机构提出了正式申请，否则按照第二条授予的半导体产品拓扑图的专有权就不能生效或不再适用.”我国《条例》第八条规定:“布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生.未经登记的布图设计不受本条例保护。”

　　登记取得制体现出布图设计权类似于工业产权的特点，与自动取得制相比有许多优点，具体表现为:布图设计发展速度较快，通过登记制便于确定布图设计的创作完成时间，还能通过登记制确定该布图设计是否符合法定的受保护条件，使权利人的权利趋于稳定。反之，如不进行登记，则布图设计权处于一种不稳定的状态之中，集成电路的生产者和销售者随时可能被诉诸侵权，这必将对集成电路产业的发展不利。因而它为多数国家所采纳。不过，为了给权利人以必要的准备时间，.法律允许当事人在布图

　　设计首次商业利用的两年内提出申请。

　　第三，有限的使用取得与登记取得相结合制此种方式为，布图设计权应通过登记取得，但对未登记的布图设计，在其首次商业利用后的一段时间内，仍予以保护，超出此期间仍不登记的，不再予以保护。美国、荷兰等国采用了此种方式。如美国《半导体芯片保护法》第908条规定:掩膜作品所有人可以向版权登记处申请其掩膜作品的保护要求。如果掩膜作品在世界任何地区首次商业利用以后的两年内未按本章规定提出保护请求的登记申请，则本章所规定的对掩膜作品的保护终止。

　　有限的使用取得与登记取得相结合的制度好象结合了自然取得制和登记制的优点，但由于未登记首次商业使用取得也具有自然取得的那些缺点，故采取此种制度的国家比较少。

　　总之，采取登记制来保护布图设计之所以为多数国家所采纳，实质上是因为布图设计具有一定的创造性和实用性，正是为了准确确定布图设计的独创性，为了布图设计在集成电路产业中的广泛应用，以利于集成电路产业的发展。

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