集成电路布图设计权的保护期限

　　为了保护布图设计创作人的权利和利益，各国制定了法律，从而产生了布图设计权。但是布图设计权在保护时间上不能是无限的，否则将不利于充分发挥其对社会的作用，也不利于集成电路的技术发展，因此对布图设计应予以一定的保护期限。

　　由于保护期限直接关系到集成电路开发商的利益，因而在保护期限上发达国家与发展中国家展开了激烈的争论。最早保护布图设计的美国在《半导体芯片保护法》中规定保护期为10年。发展中国家则认为保护期过长，经勿良苦的努力，终于在《华盛顿条约》中将保护期减少为8年，但由于发达国家的抵制，在TRIPS协议中又将保护期延长到10年。我国《条例》第十二条规定:‘布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。”

　　对于保护期限，陈家骏先生认为:“惟如科技工业之场合，其造成进步之原动力之一即在于互相观摩及利用他人之创作，从而激活自己脑力而创造出其他新技术，故如从人类文明福社之均沾及促进社会整体利益而言，科技产物之保护期实不宜太长，是以10年为妥。”对布图设计权保护期限的规定既应考虑社会公共利益，又要照顾布图设计创作人及开

　　发商的利益，还要考虑发展中国家的利益，以及集成电路技术更新的速度。只有找到这些因素的平衡点，才能恰当规定布图设计的保护期。尤其是集成电路技术的更新速度越来越快，从长远的利益来看，10年的保护期似乎过长了些。但当今世界是大国主宰的世界，既然TR工PS已规定了10年的保护期，我们也只有与其保持一致。

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