集成电路布图设计侵权抗辩之独立创作

　　权利之行使，必有一定界限，超出正当之界限而行使权利，即为权利之滥用。知识产权作为民事权利，自应受禁止权利滥用原则的约束。而且知识产权要充分发挥作用，使其价值得以充分实现，则应使掌握和使用这种无体财产的人员越多越好。如果法律上仅仅赋予无体财产的创造人之专有权，而不加以限制，则不利于公众掌握或使用该无体财产，从而无法最大限度地发挥无体财产的社会效益。布图设计权作为一种新型的知识产权，对其保护既应当考虑创作人和投资者的利益，也应考虑有利于使作为社会财富的集成电路技术得以迅速而广泛的传播，使整个社会受益，实现创作人和投资者的利益与整个国家和社会利益的平衡，因而布图设计权不能是没有限制的权利。综观各国立法和国际条约来看，对布图设计权的限制主要有时间限制、地域限制和权能上的限制

　　独立创作是指未抄袭他人创作而自行独立研究而得，此时即使与他人作品构成实质相似，亦不构成侵权。本文认为，独立创作是指创作人对经过自己的智力劳动所独立创作出来的与他人相同的布图设计，也能取得布图设计权，其对自己创作的与他人相同的布图设计进行复制和将其投入商业利用，不构成对他人布图设计权的侵害。

　　独立创作原则援引自版权法的原则。版权法认为，独立开发完成之著作，只要版权人能证明其系自己投入人力、财力所创造出来之智慧结晶，且未接触过他人之著作，即使与他人之著作雷同或州以亦不构成侵害。布图设计法之所以沿用版权法的原则，是因为布图设计与版权法中的作品相似的特点，同时布图设计的创造性又不及专利法中发明创造的创造性高。再者，由于受种种条件的限制，布图设计的形式极为有限，他人有可能独立创作出与受保护的布图设计相同的布图设计，如果该创作人实施其创作的布图设计构成侵权的话，将不利于调动创作人的积极性。独立创作最早见于《华盛顿条约》第6条第2款“(c)对于由第三者独立创作出的相同的原创性布图设计(拓扑图)，权利持有人不得行使其权利。”韩国、我国的香港、台湾亦有类似规定。我国《条例》第二十三条规定:“下列行为可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬:(三)对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或将其投入商业利用的。”

　　构成独立创作有三点:(1)该布图设计与他人受保护的布图设计相同.不仅构成相同，而且功能也相同。(2)该布图设计人要有充足的证据证明自己是独立创作出来的，比如提供创作所使用的资料、设计的步骤等。(3)该布图设计人要有充足的证据证明其未接触过受保护的布图设计。